目前，測控技術與儀器的發展狀況

2006-09-20 點擊量：

       測控技術與儀器是研究信息的獲取和處理，以及對相關要素進行控制的理論與技術；是電子、光學、精密機械、計算機、信息與控制技術多學科互相滲透而形成的一門高新技術密集型綜合學科。　

  目前的發展狀況：

　  (1)以自然基準溯源和傳遞，同時在不同量程實現國際比對。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家。

      (2)高精度。目前半導體工藝的典型線寬為0.25μm，并正向0.18μm過渡，2009年的預測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3，那么就要求10nm量級的精度，而且晶片尺寸還在增大，達到300mm。

　  (3)高速度。目前加工機械的速度已經提高到1m/sec以上，上世紀80年代以前開發研制的儀器已不適應市場的需求。

　 (4)高靈敏，高分辨，小型化。如將光譜儀集成到一塊電路板上。

　 (5)標準化。通訊接口過去常用GPIB，RS232。現在，技術領先者設法控制技術標準，參與標準制訂是儀器開發的基礎研究工作之一。

如需了解詳情，請查詢：高低溫試驗箱，恒溫恒濕試驗箱，高低溫濕熱試驗箱。